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净化工程的原理要求有哪些

来源: 时间:2025-09-08 08:39:23 浏览次数:

    • 净化工程是指控制产品(如硅芯片等)所接触大气的洁净度及温湿度,使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造,此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。
    • 原理
      • 乱流洁净室:从来流到出流之间气流的流通截面是变化的,气流在室内不可能以单一方向流动,将会彼此撞击,有回流、旋涡产生,流态实质是突变流、非均匀流,主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度。
      • 单向流洁净室:一般有水平流和垂直流两种类型。气流以一个方向流动,并以一般是 0.3 米 / 秒至 0.5 米 / 秒的均速流过整个空间,由满布洁净室吊顶的高效过滤器向室内送风,像一个空气活塞向下流经室内,带走污染物,然后从地面排出。
  • 控制要求1
    • 温湿度控制:洁净空间的温湿度主要根据工艺要求确定,同时考虑人的舒适度感。随着空气洁净度要求提高,工艺对温湿度要求也越来越严,例如大规模集成电路生产的光刻曝光工艺,对温度波动范围要求极小,硅片生产最佳湿度范围一般为 35%-45%。
    • 气压规定:为防止外界污染侵入,大部分洁净空间需保持内部压力(静压)高于外部压力(静压)。洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力,洁净度级别高的空间压力要高于相邻的洁净度级别低的空间压力,压力差的维持依靠新风量。
    • 气流速度规定:乱流洁净室主要用换气次数概念,送风口出口气流速度不宜太大,吹过水平面的气流速度一般不宜大于 0.2m/s;单向流洁净室截面上的速度是重要指标,我国规定垂直平行流(层流)洁净室≥0.25m/s,水平平行流(层流)洁净室≥0.35m/s。
    • 噪声控制:衡量洁净室噪声的主要指标包括烦恼的效应、对工作效率的影响、对综合通讯的干扰,一般采用 A 声级来评价,噪声标准严于保护健康的标准,以保障操作正常进行。
    • 照明要求:包括一般照明、局部照明和混合照明,其中一般照明的照度按《洁净厂房设计规范》应占总照度的 10%-15%,但不低于 150LX。
    • 防静电:洁净室内因静电可导致多种事故,如静电电击、放电电流破坏半导体元件、放电产生的电磁波干扰电子仪器、放电发光导致感光破坏、静电的力学现象导致粉尘堵塞等。静电事故主要源于静电的产生和积累,气流流动、人体与衣服摩擦等多种因素都可能产生静电。
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