空气净化技术的发展与应用
来源：山东康德莱净化工程有限公司 日期：2019-9-23
纵观国内外空气净化技术的发展史，都是伴随着产品的可靠性、加工工艺的精密化、产品的微型化以及产品的高纯度等要求而不断地发展的。无论是在陀螺仪制造过程中应用空气净化技术，提高了劳动生产率和延长了产品的使用寿命，还是在战争中发现电子仪器失灵的原因是灰尘作怪；无论是发射探索太空，还是阿波罗登月科技竞争；无论是1k位集成电路的大规模生产，还是产品的微型化需求使集成度越来越高，发展超大规模的集成电路，集成度从1k位发展到1m、1km、4km、16km······；无论是控制无生命的微粒，还是控制有生命的微粒；无论是航天、军方产品的需求，还是民用产品和家庭生活的需求······。空气净化技术就是在这种需求、满足、更高的需求、更好地满足中不断地发展，应用领域不断的地延伸。
国际上空气净化技术的发展经历了以下阶段：
在20世纪20年代，美国航空业的陀螺仪制造过程中提出了生产环境的净化要求。在制造车间、实验室建立了“控制装配区”，供给一定量的过滤后的空气。在朝鲜战争中，美国找到了电子仪器出故障的主要原因是灰尘作怪，而促成了空气净化技术的起步。
1957年，前苏联颗人造的升空，---了美国加速发展宇航事业，制定了阿波罗登月计划，其电子控制仪器和精密机械加工环境均要求净化，因而促进了净化技术的大发展，建造了百级洁净室，誔生个洁净室标准。
1970年，1k位的集成电路开始大规模生产，使净化技术的发展突飞猛进。20世纪80年代，大规模和超大规模集成电路的生产，使空气净化技术有了进一步的发展，集成电路的最细光刻线宽达到2~3um。在70年代末和80年代初，美国、日本研制出0.1um级空气过滤器，为洁净度的提高创造了条件。
在20世纪90年代，超大规模集成电路的生产有了新的进展，最细光刻线宽由80年代的微米级发展到亚微米级。到20世纪末，要求达到0.1~0.2um，集成度达到1km。集成电路的集成度越高，要求的光刻线宽就越小，则要求控制的尘粒粒径就越小，尘粒数量也越少。如今，要求0.1um10级的洁净度已经很普遍，将来要求的洁净度会更高，洁净室的应用领域会更加宽广。
