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洁净室内 分子态污染物

2026-01-14

 分子态污染物
分子态污染物(AMC)是半导体生产用洁净室对环境要求的一个新指标，20世纪90年代中期才提出。特别是生产集成电路的硅片发展到8英寸(1英寸=0.0254m)及其以上时，对污染物的控制已由微粒发展到分子态污染物，此时电路上1/2线宽大约在0.1pm以下。分子态污染物粒径为高效和超高效过滤器所过滤微粒的千分之一到万分之一。
据我国台湾文献估计，在洁净室中AMC来源如下:新风5%~10%;
人员30%~40%;
生产中挥发25%~30%;
生产设备20%~30%。
可见内部污染高于新风。
室内污染来源有:化学原料、溶剂的挥发，室内的气体释放，人员本身及其疏忽造成的意外漏溢。
例如:氢氟酸与含氧化硼的过滤器所用滤材反应释出硼化物，蚀刻剂及清洗区的酸蒸发，建筑装饰材料、帘幕、台面材质、接缝密封胶、硅晶片储存盒、PVC手套等塑胶材质都会散发出分子态污染物，主要有氨、胺化物、酸、醇类及高挥发性物质。分子态污染对半导体产品生产的影响主要表现在:其中的酸会腐蚀设备和硅片，使蚀刻速度变化;其中的碱会使显影不清，光学仪器及硅片表面雾化;其中的凝聚性有机物会使黏着力变低，接触电阻增高，并影响清洁效果;其中的掺杂物会改变电压，使电阻系数偏移，造成电气特性改变。
据半导设备与材料国际组织提出的标准洁净环境中气态分子级化学污染物的分级(SEMIF21一95)如表5-21所列。

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