国内外的洁净技术的发展都是随着科学技术的发展、工业产品的日新月异，特别是军事工业、航天、电子和生物医药等工业的发展而不断发展。现代工业产品生产和现代化科学实验活动要求微型化、精密化、高纯度、高质量和高可靠性。微型化的产品如电子计算机，从当初的要在数间房间内配置数台设备组合发展到现在的笔记本电脑，它所使用的电子元器件从电子管到半导体分离器件到集成电路再到超大规模集成电路，仅集成电路的现宽已从几微米发展到现今的0.1μm左右。以集成电路的微型化为例，它对空气中受控粒子粒径从0.3~0.5μm的要求发展到空气中受控粒子的粒子尺寸要求控制在0.05μm甚至更小，可见各类工业产品的微型化正不断对洁净技术提出更严格的要求。高纯度的产品，如生产集成电路所需单晶硅材料，生产光钎所需四氯化硅、四氯化锗材料已由过去的所谓高纯进入“电子纯”、“超纯”，只有达到如此高的纯度才能达到现代集成电路、电子元器件、光钎产品所需的技术特性。要生产如此高纯度的产品，就必须达到相应的受控生产环境的空气洁净度等级和具有相应高纯度的与产品直接接触的超纯水，超纯气体、超纯试剂等。对于现今以“微型电脑”为手段的电子信息时代，产品的高质量、高可靠性的重要意义是不言而喻的；对于确保人生安全的灭菌操作以及对于现代基因工程和金芯片的制作也具有特殊的意义。基于这种趋势洁净技术的发展与现代工业生产和科学实验活动不可缺少的重要标志之一。

 20世纪60年代的洁净技术在美国、欧洲等发达国家顺应各行各业产品生产和科学实验活动的需要得到了广泛应用，可以认为是洁净技术的大发展时期。美国在1961年诞生了国际上最少的捷径是标准系美国空军技术条令203，并把编制联邦政府给的任务交给了原子能委员会的出版机构；1963年底颁布了第一个军用部分的联邦标准即FS-杠209,从此联邦标准“209”就成为国际通行的著名的洁净室标准;1966年颁布了修订后的FS—209A。1957年苏联第一颗人造卫星上天后，美国政府加速发展宇航事业、精密机械加工和电子工业，这些都要求具有受控空气洁净的生产环境，从而带动洁净技术及其设备制造的大发展，1961年单向流洁净技术和100级洁净室的建立，更促进了洁净技术的进一步发展。我国的洁净室技术开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的设计、建造发展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室；与此同时，洁净厂房用设备和材料，如高效过滤器、洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹淋室、 净化型传递窗等相继研制成功，并投入生产，虽然制造质量和某些技术指标与国际水平尚有差距，但已能满足国内部分需求。由高效过滤器、净化设备和维护结构（墙板、顶棚、地面）组装完成的装配室洁净室研制成功。到20世纪70年代末我国洁净室设计、建造和洁净技术的发展走向成熟阶段。